Tsinghua团队正在开发一个新的Extreme Ultraviolet Pho

作者: 365bet体育   点击次数:    发布时间: 2025-07-25 14:19

明林华大学的官方网站最近在化学部的Xu Huapping教授团队中在极端紫外线材料材料领域取得了重大进步，该团队成功地基于政治人物开发了新的光子，从而为高级半导体制造的关键材料设计了创新的思想。集成电路过程继续发展朝着7个节点过程节点发展，具有极端极端的紫外线光刻技术，其13.5纳米波长现在成为中心方法。但是，由于极端紫外线的反射丧失和亮度不足，因此已经提出了有关光晶片的更高要求，就光吸收效率，反应机制和缺陷控制机制而言。目前，常规的光质体利用化学扩增或金属敏化以提高灵敏度的簇，但是这种类型的材料通常是结构的复杂，在组分中异质性，并且容易在组件之间扩散。在学术界，人们认为极端的紫外线耐药性需要四个重要特性：它是实现出色的极端紫外线吸收能力，能源利用的有效效率，分子结构的高均匀性和高灵敏度，低缺陷速度，低缺陷速度和较高的图形边缘的最小结构单元。基于以前独立开发的聚氧材料，Xu Huappe团队创建了一个新的Extremaviolet Photoreter系统，以完全满足先前的性能要求。在调查过程中，该团队引入了一个带有紫外线吸收强大和极端特性的Tellurio元素，并具有强烈和极端的紫外线吸收特性，并充分利用了其低Union解离能，以实现展览后的主链破坏，这是在展览之后的破坏。充分利用其低链接解离能，以实现展览后的主链破坏。 Fotorresist是由小分子各个成分的聚合制成的。它具有简单的结构，高吸收，高灵敏度和分子水平的均匀性，有效地避免了多个系统相的传播和分离的常见问题。这种集成的设计策略为下一个代紫外线的研究和开发提供了一条实用且可行的技术途径。相关研究提出的设计概念结合了高吸收柜，主要的破裂机制是链的预期和材料的均匀性，促进了极端紫外线材料的更大开发，并坚决支持高级半导体制造过程中的技术更新。